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超低压等离子喷涂的起源

发布时间:2021/6/22 14:59:29 | 浏览次数:


上世纪90年代中期,LPPS技术的创新先驱、已故的埃里克·穆尔伯格(Eric Muehlberger)开始与苏尔寿美科(Sulzer Metco)合作,探索新的方法,在金属板的大表面积(许多平方米)上快速、廉价地涂敷非常薄、高度均匀的电介质涂层。这导致了1998年美国专利#5853815题为“在大基板上形成均匀薄涂层的方法”,该专利描述了在高功率和远低于常规操作包络线的腔室压力下使用改进的LPPS系统。从那时起,苏尔寿美科和其他地方的其他公司已经完善和扩展了在非常低的腔室压力下运行的概念。已经开发了多种新的替代方法,用于使用改进的LPPS系统从细熔滴快速沉积薄喷涂涂层,或从固体、液体或气体原料快速沉积蒸汽沉积涂层。这些新工艺技术的术语在不同的作者中并不完全一致。

在本文中,我们采用以下术语:等离子喷涂薄膜(PS-TF)是指一种以粉末为原料的工艺,其沉积主要是通过熔融液滴进行的,类似于传统的等离子喷涂,但室压大大降低;等离子喷涂物理气相沉积(PS-PVD)是指粉末原料蒸发,沉积主要发生在气相的过程;等离子喷涂化学气相沉积(PS-CVD)是指利用液体或气体原料和气相沉积的过程;超低压等离子喷涂(VLPPS)是指整个系列的减压(<800pa(<6torr))等离子喷涂技术。



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